特許
J-GLOBAL ID:200903008402409548

微粒子噴射加工装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 稲本 義雄 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-105354
公開番号(公開出願番号):特開平5-277948
出願日: 1992年03月31日
公開日(公表日): 1993年10月26日
要約:
【要約】【目的】 圧縮空気中に分散された極微粒子を、突沸状態の発生を防止してノズルから安定して噴射させることができ、加工の均一性を向上させる。【構成】 圧縮空気を供給する空気供給管7を混合室3の底部に接続し、混合室3から圧縮空気に混合された極微粒子2を噴射室5に送り出す送出管12を混合室3の上部に接続し、この接続部に空間31を設ける。
請求項(抜粋):
極微粒子が充填された混合室と、前記混合室に圧縮空気を供給する空気供給管と、前記混合室に送出管を介して接続され、前記極微粒子を前記圧縮空気とともに被加工物に対して噴射する噴射室と、前記混合室内の前記極微粒子を攪拌する攪拌部材とを備えた微粒子噴射加工装置であって、前記空気供給管を前記混合室の底部に接続し、前記送出管の一端を前記混合室の上部に接続するとともに、前記送出管が接続された部位の前記混合室の上部に、所定の大きさの空間を設けたことを特徴とする微粒子噴射加工装置、

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