特許
J-GLOBAL ID：200903008405027492

不均一改善化粧料

発明者：
小原 康弘

小原 康弘 について


出願人/特許権者：
ポーラ化成工業株式会社

ポーラ化成工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-132862
公開番号（公開出願番号）：特開平10-306011
出願日： 1997年05月07日
公開日（公表日）： 1998年11月17日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 本発明は、肌の不均一性を改善し、以て肌を美しくする化粧料を提供することを課題とする。【解決手段】 下記一般式(I)に表される芳香族化合物から選ばれる1種乃至は2種以上とトレハロース及び/又はその誘導体を化粧料に含有させる。【化1】一般式(I)(但し、式中R1、R2、R3、R4はそれぞれ独立に水素原子、水酸基、炭素数1〜4のアルキルオキシ基、炭素数1〜4のアシルオキシ基又は炭素数1〜4のアルキル基を表す。)本発明によれば、肌の不均一性を改善し、以て肌を美しくする化粧料を提供することができる。
請求項（抜粋）：
下記一般式(I)に表される芳香族化合物から選ばれる1種乃至は2種以上とトレハロース及び/又はその誘導体を含有する化粧料。【化1】一般式(I)(但し、式中R1、R2、R3、R4はそれぞれ独立に水素原子、水酸基、炭素数1〜4のアルキルオキシ基、炭素数1〜4のアシルオキシ基又は炭素数1〜4のアルキル基を表す。)
IPC (4件)：
A61K 7/00 ,  A61K 7/025 ,  A61K 7/035 ,  A61K 7/06
FI (6件)：
A61K 7/00 F ,  A61K 7/00 C ,  A61K 7/00 W ,  A61K 7/025 ,  A61K 7/035 ,  A61K 7/06
引用特許：
出願人引用 (16件)
全件表示
審査官引用 (4件)
  • 化粧料
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-098819   出願人：ポーラ化成工業株式会社
  • 皮膚外用剤
    公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-276342   出願人：株式会社資生堂
  • 特開平4-029919
全件表示

前のページに戻る

TOP

BOTTOM