特許
J-GLOBAL ID：200903008411782375
炭素薄膜の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
藤井 信行
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-030107
公開番号（公開出願番号）：特開平7-257915
出願日： 1994年02月28日
公開日（公表日）： 1995年10月09日
要約：
【要約】【目的】 本発明は分子レベルで構造制御が可能な高配向性炭素薄膜を得ることを目的とする。【構成】 カチオン基を有する重合体と層状粘土鉱物とを含有する展開液を調製し、該展開液を基板表面に展開した後、前記基板上の液膜から溶媒を除去した複合膜に対して、重合物の炭素化を行う熱処理を施した後、層状粘土鉱物を酸或はアルカリ処理によって抽出することを特徴とする炭素薄膜の製造方法。
請求項（抜粋）：
カチオン基を有する重合体と層状粘土鉱物とを含有する展開液を調製し、該展開液を基板表面に展開した後、前記基板上の液膜から溶媒を除去した複合膜に対して、重合物の炭素化を行う熱処理を施した後、層状粘土鉱物を酸或はアルカリ処理によって抽出することを特徴とする炭素薄膜の製造方法。
IPC (2件)：
C01B 31/02 101
, C01B 31/04 101
