特許
J-GLOBAL ID：200903008424151501
プラズマ処理装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
宮本 治彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-317556
公開番号（公開出願番号）：特開平9-139378
出願日： 1995年11月10日
公開日（公表日）： 1997年05月27日
要約：
【要約】【課題】反応室壁面や排気管が汚れにくいプラズマ処理装置を提供する。【解決手段】真空容器1の上壁面、側壁面、下壁面に石英管12をそれぞれ気密に設置する。石英管12の管内に、ランプ11をそれぞれ設置する。ランプ11のフィラメント等の光を発する部分を真空容器1内に突き出させ、ランプ11が発する光を真空容器1内部に導入できるようして、真空容器1の内壁面をランプ11によって直接加熱するようにする。プラズマ処理中にランプ11を点灯して真空容器1の内壁面や上電極4の裏面等を加熱する。
請求項（抜粋）：
プラズマ処理が行われる反応室の壁面、前記反応室に連通する排気管の壁面、または前記反応室の壁面および前記排気管の壁面に加熱用ランプを設置したことを特徴とするプラズマ処理装置。
IPC (4件)：
H01L 21/3065
, C23C 16/50
, C23F 4/00
, H01L 21/205
H01L 21/302 C
, C23C 16/50
, C23F 4/00 A
, H01L 21/205
