特許

J-GLOBAL ID：200903008433063984

微細パターン測定方法、微細パターン測定装置、及び微細パターン測定プログラムを格納したコンピュータ読み取り可能な記録媒体

発明者： 宮野 ゆみこ
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 三好 秀和 (外7名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-202038
公開番号（公開出願番号）：特開2001-028060
出願日： 1999年07月15日
公開日（公表日）： 2001年01月30日
要約：

【要約】【課題】 簡便な方法で大量の光近接効果補正パターンを効率よく測定することができる微細パターン測定方法を提供する。【解決手段】 微細パターンの画像を取り込む第1のステップと、画像から微細パターンの輪郭を抽出する第2のステップと、微細パターンの標準図形を取り込む第3のステップと、標準図形を縦横比を保持したまま拡大あるいは縮小して輪郭に重ね合わせる第4のステップと、輪郭と標準図形の交点を抽出する第5のステップと、輪郭と標準図形と交点で囲まれた差領域を抽出する第6のステップと、差領域から補正パターン領域を抽出する第7のステップと、補正パターン領域を測定する第8のステップとを少なくとも有する。

請求項（抜粋）：

微細パターンの画像を取り込む第1のステップと、前記画像から前記微細パターンの輪郭を抽出する第2のステップと、前記微細パターンの標準図形を取り込む第3のステップと、前記標準図形を縦横比を保持したまま拡大あるいは縮小して前記輪郭に重ね合わせる第4のステップと、前記輪郭と前記標準図形の交点を抽出する第5のステップと、前記輪郭と前記標準図形と前記交点で囲まれた差領域を抽出する第6のステップと、前記差領域から補正パターン領域を抽出する第7のステップと、前記補正パターン領域を測定する第8のステップとを少なくとも有することを特徴とする微細パターン測定方法。

IPC (3件)：

G06T 7/00 ,  G01N 21/88 ,  G03F 7/00

FI (3件)：

G06F 15/70 330 Q ,  G01N 21/88 J ,  G03F 7/00

Fターム (52件)：

2G051AA56 ,  2G051AB02 ,  2G051AB20 ,  2G051BA20 ,  2G051CA03 ,  2G051CA04 ,  2G051CB10 ,  2G051DA07 ,  2G051EA08 ,  2G051EA11 ,  2G051EA14 ,  2G051EA23 ,  2G051EB01 ,  2G051EB02 ,  2G051EC03 ,  2G051EC04 ,  2G051ED03 ,  2G051ED11 ,  2G051ED15 ,  2G051ED22 ,  2G051ED23 ,  2H096AA25 ,  2H096EA11 ,  2H096LA30 ,  5L096BA03 ,  5L096DA01 ,  5L096EA06 ,  5L096EA28 ,  5L096EA39 ,  5L096FA02 ,  5L096FA06 ,  5L096FA10 ,  5L096FA25 ,  5L096FA59 ,  5L096FA60 ,  5L096FA69 ,  5L096GA32 ,  5L096JA09 ,  9A001BB02 ,  9A001BB03 ,  9A001BB04 ,  9A001GG14 ,  9A001GG15 ,  9A001HH21 ,  9A001HH24 ,  9A001HH25 ,  9A001HH28 ,  9A001JJ01 ,  9A001JJ49 ,  9A001JJ50 ,  9A001KK37 ,  9A001KK54