特許

J-GLOBAL ID：200903008443240027

ポリ尿素膜の製造方法

発明者： 高橋 善和 ,  浮島 禎之 ,  飯島 正行
出願人/特許権者： 日本真空技術株式会社 ,  昭和シェル石油株式会社
代理人 (1件)： 友松 英爾 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-080968
公開番号（公開出願番号）：特開平7-258370
出願日： 1994年03月28日
公開日（公表日）： 1995年10月09日
要約：

【要約】【目的】 230〜300°Cに加熱されても熱分解をおこすことのない蒸着重合法ポリ尿素薄膜を製造する方法の提供。【構成】 真空中で(a)ジアミン成分と(b)ジイソシアナート成分とを別々の蒸発源から蒸発させ、これを基板表面上で蒸着重合によりポリ尿素膜を形成し、ついで、このポリ尿素膜に紫外線または電子線を照射することを特徴とするポリ尿素膜の製造方法。

請求項（抜粋）：

真空中で(a)ジアミン成分と(b)ジイソシアナート成分とを別々の蒸発源から蒸発させ、これを基板表面上で蒸着重合によりポリ尿素膜を形成し、ついで、このポリ尿素膜に紫外線および/または電子線を照射することを特徴とするポリ尿素膜の製造方法。

IPC (4件)：

C08G 18/32 NDT ,  C08G 18/08 NGX ,  G03F 7/028 ,  G03F 7/038