液体処理方法及び装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：萩野平 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-331225
公開番号（公開出願番号）：特開2000-153268
出願日： 1998年11月20日
公開日（公表日）： 2000年06月06日
要約：

【要約】【課題】薬品を使用しないで高い脱水効率で汚泥を脱水処理したり、薬品を使用しないで殺菌処理ができるとか、大電力を必要とせずに処理することができる液体を処理する手段を提供する。【解決手段】被処理液体にレーザーを収束させて、液体中でブレイクダウン(絶縁破壊)を起こすことを特徴とする液体処理方法。ブレイクダウン(絶縁破壊)によってプラズマ、ラジカル、UV光及び衝撃波を発生させ、該プラズマ、ラジカル、UV光及び衝撃波によって処理を行う。前記レーザーを走査(スキャニング)するが好ましい。前記レーザーとしてパルスレーザー、Qスイッチングパルスレーザー、紫外線レーザー又は太陽光励起のレーザーのいずれかを用いる。前記被処理液体が細菌が含有している溶液や、汚泥を含有する溶液である。

請求項（抜粋）：

被処理液体にレーザーを収束させて、液体中でブレイクダウン(絶縁破壊)を起こすことを特徴とする液体処理方法。

IPC (3件)：

C02F 1/30 , B02C 19/18 , C02F 11/12

FI (3件)：

C02F 1/30 , B02C 19/18 B , C02F 11/12 E

Fターム (13件)：

4D037AA12 , 4D037AB03 , 4D037BA16 , 4D037BA18 , 4D037BB01 , 4D059BK11 , 4D059BK13 , 4D059BK23 , 4D059BK24 , 4D059BK25 , 4D059CA21 , 4D067CD05 , 4D067GA20

前のページに戻る