特許

J-GLOBAL ID：200903008455189736

マグネシウム系水素吸蔵材料

発明者： 河合 泰明 ,  小島 由継
出願人/特許権者： 株式会社豊田中央研究所
代理人 (1件)： 大川 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-221670
公開番号（公開出願番号）：特開2006-035161
出願日： 2004年07月29日
公開日（公表日）： 2006年02月09日
要約：

【課題】 より低温で水素を吸蔵、放出することのできるマグネシウム系水素吸蔵材料を提供する。【解決手段】 マグネシウム系水素化物と、水素吸蔵放出特性を向上させるニッケル含有物質と、からなるマグネシウム系原料を機械的粉砕処理してマグネシウム系水素吸蔵材料とする。マグネシウム系水素吸蔵材料は、水素を吸蔵、放出する基材となるマグネシウム系材料の粒子にニッケル含有物質の粒子が高分散状態で複合化してなる。ここで、マグネシウム系水素吸蔵材料におけるマグネシウム系材料の粒子の平均粒径を100nm以上300nm以下とし、ニッケル含有物質の粒子の平均粒径を10nm以上100nm以下とする。また、水素放出処理を200°C以上350°C以下の温度下で行う。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

マグネシウム系水素化物と、水素吸蔵放出特性を向上させるニッケル含有物質と、からなるマグネシウム系原料を機械的粉砕処理することにより得られ、 水素を吸蔵、放出する基材となるマグネシウム系材料の粒子に該ニッケル含有物質の粒子が高分散状態で複合化されており、 該マグネシウム系材料の粒子の平均粒径は100nm以上300nm以下であり、該ニッケル含有物質の粒子の平均粒径は10nm以上100nm以下であることを特徴とするマグネシウム系水素吸蔵材料。

IPC (3件)：

B01J 20/04 ,  B01J 20/34 ,  C01B 3/00

FI (3件)：

B01J20/04 C ,  B01J20/34 D ,  C01B3/00 B

Fターム (15件)：

4G066AA10D ,  4G066AA11B ,  4G066AA27B ,  4G066BA09 ,  4G066BA20 ,  4G066BA36 ,  4G066CA38 ,  4G066EA20 ,  4G066FA02 ,  4G066FA37 ,  4G066GA01 ,  4G066GA32 ,  4G140AA12 ,  4G140AA34 ,  4G140AA44