特許
J-GLOBAL ID：200903008459758336
酸化タンタル薄膜製造装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
池内 寛幸 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-148595
公開番号（公開出願番号）：特開平5-000819
出願日： 1991年06月20日
公開日（公表日）： 1993年01月08日
要約：
【要約】【目的】 有機タンタル化合物原料の実流量を制御でき、安定した量の原料の供給が可能であり、薄膜堆積速度の速い酸化タンタル薄膜を形成することができる酸化タンタル薄膜製造装置を提供する。【構成】 液体流量制御装置8によって直接液体Ta(OC2 H5 )5 の流量を制御したのちに三方弁9に供給し、酸素含有ガス16とArからなる不活性ガス10との混合ガスと三方弁9内で合流させ、Ta(OC2 H5 )5 を霧状に吹き出すことによって気化させ真空室1内で加熱分解・反応により基板3上に酸化タンタル薄膜が堆積する。
請求項（抜粋）：
液体有機タンタル化合物の気化物または噴霧状物と酸素含有ガスならびに不活性ガスとを導入し、加熱分解・反応させる化学気相成長法による酸化タンタル薄膜を形成するためのヒータを備えた加熱可能な真空室を有する薄膜製造装置において、前記液体有機タンタル化合物の流量を液状で制御するための液体流量制御装置と、前記液体流量制御装置により流量制御された液体有機タンタル化合物と、前記酸素含有ガスと不活性ガスの混合ガスとを合流させて前記混合ガス流により前記液体有機タンタル化合物を気化または噴霧状物として前記混合ガスと共に前記真空室に導入するための通路を備えた三方弁を有することを特徴とする酸化タンタル薄膜製造装置。
IPC (4件)：
C01G 35/00
, B01J 3/02
, C23C 16/44
, H01L 27/108
