特許
J-GLOBAL ID：200903008467939072
弾性表面波装置の製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-307475
公開番号（公開出願番号）：特開2001-177366
出願日： 2000年10月06日
公開日（公表日）： 2001年06月29日
要約：
【要約】【課題】 周波数調整後に活性化されたIDT等の電極表面を安定させ、周波数f0が安定した状態で封止することができ、かつ周波数の微調を行うことができる弾性表面波装置の製造方法を提供する。【解決手段】 ウエハ10を用意し、ウエハ10上に金属膜11を形成し、金属膜11をエッチングしてIDT2及び反射器3を形成し、ウエハ10の一部である圧電基板10a及びIDT2をトリミングして周波数を調整し、IDT3表面を酸素雰囲気中での熱処理により急速に変質させて変質層を形成して特性を安定させる。
請求項（抜粋）：
圧電基板と、該圧電基板上に形成されたIDTとを少なくとも有する弾性表面波装置の製造方法において、前記圧電基板を用意する工程と、前記圧電基板上に電極薄膜を形成する工程と、前記電極薄膜をエッチングして前記IDTを形成する工程と、前記圧電基板及び前記IDTをトリミングして周波数を調整する工程と、前記IDT表面を変質させて安定させる工程と、を備えることを特徴とする弾性表面波装置の製造方法。
IPC (3件)：
H03H 3/10
, H03H 9/145
, H03H 9/25
H03H 3/10
, H03H 9/145 C
, H03H 9/25 A
5J097AA13
, 5J097HA02
, 5J097HA07
, 5J097HB02
, 5J097HB05
, 5J097JJ02
