特許
J-GLOBAL ID：200903008469890291
レーザ光照射装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大胡 典夫 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-014334
公開番号（公開出願番号）：特開平11-212021
出願日： 1998年01月27日
公開日（公表日）： 1999年08月06日
要約：
【要約】【課題】 例えば、半導体装置の製造技術で、微細なホールや溝上にスパッタ法によりCuを堆積させて、それにエネルギービームを照射して溶融させ、Cuによる埋込み配線を形成する際等に用いる、レーザ光Lの強度分布を空間的に均一にする装置に関する。【解決手段】 カライドスコープ8を用いたレーザ光L強度を均一化する光学系において、カライドスコープ8から出力されたレーザ光Lを選択的に透過する種々のマスク20等を配置することにより、カライドスコープ8の出口8E部で発生する干渉縞の影響を除去した均一度の高いレーザビームLBを得ることが出来た。
請求項（抜粋）：
レーザ発振器から発振されるレーザ光の光軸上に設置された入射レンズと、この入射レンズの前記光軸上の前方に設けられたカライドスコープと、このカライドスコープの端部或いは前記光軸上における前記レーザ光の出射側に設けられ、前記カライドスコープから出力されるレーザ光を選択的に透過するマスクと、このマスクの前記光軸上における前記レーザ光の出射側に設けられた結像光学系とを有することを特徴とするレーザ光照射装置。
IPC (3件)：
G02B 27/09
, H01L 21/268
, H01L 21/3205
G02B 27/00 E
, H01L 21/268 J
, H01L 21/88 A
