特許
J-GLOBAL ID：200903008472102881
ダイヤモンド膜の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
加藤 壯祐 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-069442
公開番号（公開出願番号）：特開平6-256952
出願日： 1993年03月04日
公開日（公表日）： 1994年09月13日
要約：
【要約】【目的】 基材上へのダイヤモンド膜の高速合成を可能にする。【構成】 基材を一酸化炭素ガスと水素ガスの雰囲気中に載置しマイクロ波を投入する。この時、マイクロ波をパルス制御するが、単純なオンオフ制御ではなく、所定の最小電力と最大電力との間で繰り返しパルス状に変調する。この結果、マイクロ波の途切れる時間がなく安定したマイクロ波プラズマが得られダイヤモンド膜の高速合成を可能にする。
請求項（抜粋）：
マイクロ波プラズマにより活性化された炭素源を含む原料ガスが存在する領域に基材を設置してダイヤモンド被覆処理を行うダイヤモンド膜の製造方法において、マイクロ波電力を高電力と低電力とに交互に周期的に切り換えるようにパルス状に変調したことを特徴とするダイヤモンド膜の製造方法。
IPC (2件)：
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