特許
J-GLOBAL ID：200903008480752950
半導体装置の生産方法および半導体装置の生産管理方法とその装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
佐藤 隆久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-345364
公開番号（公開出願番号）：特開平11-176717
出願日： 1997年12月15日
公開日（公表日）： 1999年07月02日
要約：
【要約】【課題】半導体装置の生産においては、生産リードタイムが長く大量の仕掛かり品を保有することになり、効率が悪い。【解決手段】半導体装置の生産計画に基づいて、各半導体装置を生産するための作業工程の抽出を行う(ステップS1)。次に、その作業工程を、所定の制限時間以内の工程の集団である作業ブロックに順次分割していく(ステップS2)。そして、ライン中の全現場において、ラインタクトごとに区切られた共通の所定の基準時間に同期して各作業ブロックの処理を進めるように、各現場で実際のスケジューリングを行なう。
請求項（抜粋）：
所望の半導体装置を生産するための工程を抽出し、前記抽出した工程を、全体の処理時間が所定の時間以内となるような作業ブロックに順次ブロック化し、前記所定の時間ごとに区切られている時間帯の各々において、前記ブロック化された各作業ブロックの各工程の処理を行い、当該処理の結果物を、前記時間帯の区切りに後段の作業ブロックに移し、前記半導体装置を生産する半導体装置の生産方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/02 Z
, G06F 15/21 R
