特許
J-GLOBAL ID：200903008509538839
対向プレートの位置合わせ方法と位置合わせ装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
五十嵐 孝雄 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-218105
公開番号（公開出願番号）：特開平9-043861
出願日： 1995年08月02日
公開日（公表日）： 1997年02月14日
要約：
【要約】【課題】 対向プレートの位置合わせ精度の向上を図る。【解決手段】 上マスクプレート48と下マスクプレート52とは、それぞれのプレート吸着枠を介して上マスクプレート支持台56,下マスクプレート支持台60に支持され、上下に対向する。この上下のマスクプレートの位置合わせの際には、まず、両マスクプレートを近接させる。この過程で、これらマスクプレートの回りには、これを取り囲むマスクプレート包囲領域Hがシール体55により形成され、気密とされる。その一方、このマスクプレート包囲領域Hが気密にされる以前から、マスクプレート包囲領域Hのエアーを吸引孔53を経て吸引する。そして、このプレート近接,吸引を両マスクプレートが接合するまで行なうと、マスクプレート包囲領域Hの負圧化が進行しつつ、上下のマスクプレートは接合するので、両マスクプレート間にはエアー溜まりを残すことがない。
請求項（抜粋）：
第1のプレートを支持する第1プレート支持台と、該第1のプレートと対向する第2のプレートを支持する第2プレート支持台とを有し、前記第1と第2のプレートとを位置合わせする位置合わせ方法であって、前記第1プレート支持台と第2プレート支持台を相対的に移動して、前記第1と第2のプレートを一旦接合させる接合工程と、該接合された前記第1と第2のプレートの位置合わせ状態を検査する検査工程と、該検査完了後に、前記第1プレート支持台と第2プレート支持台を相対的に移動して、前記第1と第2のプレートを離間する離間工程と、該離間された前記第1と第2のプレートの少なくともいずれか一方を前記検査した位置合わせ状態に応じて移動して、前記第1と第2のプレートの位置合わせを行なう位置合わせ工程と、を備え、前記接合工程は、前記第1と第2のプレートが近づくと、前記第1と第2のプレートを取り囲むプレート包囲領域を、前記第1プレート支持台と第2プレート支持台との間において気密状態とする気密化工程と、前記プレート包囲領域におけるエアーを、前記プレート包囲領域が気密とされる以前から継続して吸引する吸引工程とを有し、前記離間工程は、前記第1プレート支持台と第2プレート支持台の相対的な移動に先立ち、前記吸引工程による前記プレート包囲領域の吸引を停止する吸引停止工程を有することを特徴とする対向プレート位置合わせ方法。
IPC (3件)：
G03F 9/00
, G03B 27/02
, H01L 21/68
G03F 9/00 Z
, G03B 27/02 G
, H01L 21/68 G
