特許
J-GLOBAL ID：200903008509897251
電子線描画装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-249509
公開番号（公開出願番号）：特開平6-104164
出願日： 1992年09月18日
公開日（公表日）： 1994年04月15日
要約：
【要約】【目的】真空試料室中での試料吸着として、特にサイズの異なるウエハに対し、統一して利用することを考慮して開発された吸着装置を備えている電子線描画装置を提供すること。【構成】真空試料室15内でステージ25上に固定され、試料を吸着する静電吸着装置30は、電極層を埋設しており、任意の電極へ印加が可能であり、鏡筒11から試料面近傍まで電子ビーム1を包み込む円筒40によりチャージアップの回避を図った電子線描画装置。【効果】同一の試料吸着装置で、様々なサイズの試料が吸着できる電子線描画装置が得られる。
請求項（抜粋）：
電子ビームを発生する電子銃と、電子ビームを収束,偏向させる鏡筒と、試料を載せX,Yに移動可能なステージを有し試料に電子ビームを照射する真空試料室と、試料を大気からX-Yステージに搬送する搬送装置と、装置の真空排気を行う排気系からなる電子線描画装置において、試料搭載部に、半絶縁物で形成された平坦な吸着面の内部に同心円状に複数の電極を配置した静電吸着装置を構成させ、任意の電極に電圧を印加可能な機構を有することを特徴とする電子線描画装置。
IPC (2件)：
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