特許

J-GLOBAL ID：200903008518483729

金属用研磨液及びそれを用いた研磨方法

発明者： 内田 剛 ,  上方 康雄 ,  寺崎 裕樹 ,  倉田 靖 ,  五十嵐 明子
出願人/特許権者： 日立化成工業株式会社
代理人 (1件)： 若林 邦彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-321720
公開番号（公開出願番号）：特開2001-144044
出願日： 1999年11月11日
公開日（公表日）： 2001年05月25日
要約：

【要約】【課題】 タンタルや窒化タンタルの高いCMP速度を発現し、高平坦化、ディッシング量低減及びエロージョン量低減を可能とし、信頼性の高い金属膜の埋め込みパタ-ン形成を可能とする金属用研磨液及びそれを用いた研磨方法を提供する。【解決手段】 含フッ素化合物及び水を含有する金属用研磨液。研磨定盤の研磨布上に前記の金属用研磨液を供給しながら、被研磨膜を有する基板を研磨布に押圧した状態で研磨定盤と基板を相対的に動かすことによって被研磨膜を研磨する研磨方法。

請求項（抜粋）：

含フッ素化合物及び水を含有する金属用研磨液。

IPC (7件)：

H01L 21/304 622 ,  H01L 21/304 ,  B24B 37/00 ,  C23F 1/18 ,  C23F 1/26 ,  H01L 21/306 ,  H01L 21/3205

FI (7件)：

H01L 21/304 622 C ,  H01L 21/304 622 D ,  B24B 37/00 H ,  C23F 1/18 ,  C23F 1/26 ,  H01L 21/306 M ,  H01L 21/88 K

Fターム (29件)：

3C058AA07 ,  3C058CA04 ,  3C058CB10 ,  3C058DA02 ,  3C058DA17 ,  4K057WA11 ,  4K057WB04 ,  4K057WB08 ,  4K057WB11 ,  4K057WE02 ,  4K057WE07 ,  4K057WE11 ,  4K057WE25 ,  4K057WE30 ,  4K057WG03 ,  4K057WG10 ,  5F033HH21 ,  5F033HH32 ,  5F033MM13 ,  5F033QQ48 ,  5F033QQ50 ,  5F033WW00 ,  5F033XX00 ,  5F043AA26 ,  5F043BB30 ,  5F043DD16 ,  5F043DD30 ,  5F043FF07 ,  5F043GG02