特許

J-GLOBAL ID：200903008543043903

窒素除去装置

発明者： 岩部 秀樹 ,  中野 一郎 ,  寺尾 康 ,  岸野 宏 ,  丸山 裕司 ,  品部 和宏 ,  福住 重郎 ,  木下 昌大
出願人/特許権者： 株式会社クボタ
代理人 (1件)： 森本 義弘
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-308566
公開番号（公開出願番号）：特開平10-146596
出願日： 1996年11月20日
公開日（公表日）： 1998年06月02日
要約：

【要約】【課題】 好気槽内に硝化菌固定化担体を流動状態に均一に保持することができ、硝化速度を高められる窒素除去装置を提供する。【解決手段】 好気槽2内に仕切壁7を設けて、処理領域9と流出領域とを形成する。流出領域内に担体分離スクリーン6を設けて、その一側に、仕切壁7の下端開口7aにおいて処理領域9に連通する上向流路11を形成し、他側に、流出系に連通する分離水流路13を形成する。上向流路11と分離水流路13にそれぞれ、上向流を生起する散気装置10,12を設ける。上向流により、上向流路11に流入した硝化菌固定化担体4を処理領域9内に越流させることができ、またスクリーン6の流入側上部における硝化菌固定化担体4の蓄積を防止できる。

請求項（抜粋）：

流動する硝化菌固定化担体を内部に保持して生物学的硝化を行う好気槽に、下端開口を有する槽内仕切壁を設けて、主散気装置を備えた処理領域と流出領域とを形成し、前記流出領域内に担体分離スクリーンを設けて、担体分離スクリーンの一側に、前記槽内仕切壁の下端開口において処理領域に連通する上向流路を形成するとともに、担体分離スクリーンの他側に、流出系に連通する分離水流路を形成し、前記上向流路と分離水流路の下部に、上向流を生起する散気装置を設けたことを特徴とする窒素除去装置。

IPC (2件)：

C02F 3/08 ZAB ,  C02F 3/34 101

FI (2件)：

C02F 3/08 ZAB B ,  C02F 3/34 101 D