特許

J-GLOBAL ID：200903008549574714

触媒充填方法及び触媒充填装置

発明者： 太田 等 ,  栗原 茂
出願人/特許権者： 旭化成工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-181853
公開番号（公開出願番号）：特開平10-024232
出願日： 1996年07月11日
公開日（公表日）： 1998年01月27日
要約：

【要約】【課題】 多管垂直式反応器において、原料ガス等に含まれるダストが触媒層に堆積することによる圧力損失の上昇を極力防止し、かつ触媒層のダスト等の堆積物の除去を容易にし、触媒寿命を延ばた触媒充填方法を提供する。【解決手段】 多管垂直式反応器に触媒を充填するに際して、開閉可能な触媒開放口を有する触媒充填装置を用いて、該反応器内の反応管の底部から少なくとも50容量%まで、触媒を充填して、次いで残りの触媒を自由落下により該反応管に充填することを特徴とする触媒充填方法である。

請求項（抜粋）：

多管垂直式反応器に触媒を充填するに際して、開閉可能な触媒開放口を有する触媒充填装置を用いて、該反応器内の反応管の底部から少なくとも50容量%まで、触媒を充填して、次いで残りの触媒を自由落下により該反応管に充填することを特徴とする触媒充填方法。