特許
J-GLOBAL ID：200903008551395681
水質の評価方法と、水質評価用半導体基板の保持容器
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
福田 賢三 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-039241
公開番号（公開出願番号）：特開2001-228138
出願日： 2000年02月17日
公開日（公表日）： 2001年08月24日
要約：
【要約】【課題】 ウエハを製造する際の洗浄工程の最後で洗浄水として使用される超純水(被評価水)の水質を評価する。【解決手段】 半導体基板(ウエハ)の表面に被評価水を接触させた後、該基板の表面に付着した微粒子を計数する。
請求項（抜粋）：
半導体基板の表面に被評価水を接触させた後、該基板の表面に付着した微粒子を計数することにより水質を評価することを特徴とする水質の評価方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N 33/18 Z
, G01N 33/00 A
