特許
J-GLOBAL ID：200903008556030363
露光方法及び装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-105190
公開番号（公開出願番号）：特開平9-293656
出願日： 1996年04月25日
公開日（公表日）： 1997年11月11日
要約：
【要約】【課題】 走査露光型の露光装置において欠けショットに対する露光時間を短縮してスループットを向上させる。【解決手段】 欠けショットである例えばショット領域S1をウエハWの内側から外側に向かって走査したとき、照野フィールド6がウエハW上のエッジ21から所定の幅だけ内側に形成された有効露光範囲を外れる減速開始位置27、及び照野フィールド6が有効露光範囲に入る走査開始位置30を、予め露光ショットマップ又は走査露光中に多点AFセンサにより求め、照野フィールド6が減速開始位置27に到達したとき照明光のレチクル上への照射を停止すると共に、次の欠けたショット領域S2の助走開始位置29に向けてステッピングし、照野フィールド6が走査開始位置30に到達したとき、再び照明光をレチクル上に照射して転写露光を行う。
請求項（抜粋）：
マスクに形成された転写用のパターンの一部を感光基板上に投射した状態で、前記マスク及び前記感光基板を同期して移動することによって、前記感光基板上の各ショット領域にそれぞれ前記マスクのパターンを逐次転写露光する露光方法において、前記感光基板上の複数のショット領域のうち、前記感光基板上の有効露光範囲から一部が外れているショット領域に対して走査露光を行う際に、該ショット領域内の有効露光範囲に前記マスクのパターンの投射領域の少なくとも一部が入るときのみに前記マスクのパターンの前記感光基板への転写露光を行うことを特徴とする露光方法。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
H01L 21/30 518
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 516 B
