特許
J-GLOBAL ID：200903008561571038
薄膜成長装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
荒船 博司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-159612
公開番号（公開出願番号）：特開平11-008199
出願日： 1997年06月17日
公開日（公表日）： 1999年01月12日
要約：
【要約】【課題】 簡便な手段により、ウェハ面内を均熱化することができる薄膜成長装置を提供する。【解決手段】 ウェハトレイ10の裏側で、かつサセプタ2と接触する周辺部とウェハ載置部5の周との間に溝状の断熱部8を設け、ウェハトレイ10がサセプタ2に収容された時に、サセプタ2とウェハトレイ10との間に断熱部8により間隙が生じるようにした。それによって、ウェハ載置部5の周辺部からサセプタ2ヘ熱が逃げるのを抑制し、ウェハ表面の温度を均一に保つようにした。
請求項（抜粋）：
薄板状のウェハが載置されるウェハトレイと、該ウェハトレイを所定位置に保持するサセプタとを備えた薄膜成長装置において、前記ウェハトレイの表側にウェハ載置部が設けられ、かつ同ウェハトレイの裏側に、ウェハトレイからの熱の放散を遮断する断熱部が設けられており、前記断熱部は、前記サセプタと接触する周辺部よりも内側で、かつ前記ウェハ載置部よりも外側に設けられていることを特徴とする薄膜成長装置。
IPC (4件)：
H01L 21/205
, C23C 16/46
, C30B 25/12
, H01L 21/68
H01L 21/205
, C23C 16/46
, C30B 25/12
, H01L 21/68 N
