特許

J-GLOBAL ID：200903008569836804

インライン式イオンビーム処理システム

発明者： 有松 啓治
出願人/特許権者： 株式会社日立製作所
代理人 (1件)： 富田 和子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-064168
公開番号（公開出願番号）：特開平5-263245
出願日： 1992年03月19日
公開日（公表日）： 1993年10月12日
要約：

【要約】【目的】イオン照射室を備えたインライン式処理装置でありながら、ライン当りのコストの低いインライン式処理装置を提供する。【構成】連結された複数の真空容器と、前記複数の真空容器間に基板を搬送する搬送手段とを有するインライン式真空処理装置を複数ライン有するインライン式真空処理システムであって、前記複数のインライン式真空処理装置の少なくとも一つは、真空容器の少なくとも一つにイオン源を備えたイオン照射室を有し、前記イオン照射室は、他のインライン式真空処理室に連結され、複数のインライン式真空処理装置で共有されて用いられることを特徴とするインライン式イオンビーム処理システム。

請求項（抜粋）：

連結された複数の真空容器と、前記複数の真空容器間に基板を搬送する搬送手段とを有するインライン式真空処理装置を複数ライン有するインライン式真空処理システムであって、前記複数のインライン式真空処理装置の少なくとも一つは、真空容器の少なくとも一つにイオン源を備えたイオン照射室を有し、前記イオン照射室は、他のインライン式真空処理室に連結され、複数のインライン式真空処理装置で共有されて用いられることを特徴とするインライン式イオンビーム処理システム。