パーティクル検査装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：工藤実 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-099018
公開番号（公開出願番号）：特開平11-295233
出願日： 1998年04月10日
公開日（公表日）： 1999年10月29日
要約：

【要約】【課題】厚み方向の情報を得て表面異物の検査精度を上げる。【構成】 2波長のレーザー源6,7を用いて、表面異物31の存在と厚み方向の情報例えば膜中異物32の存在とを2波長のレーザーの反射量により連立式により割り出し、表面異物の検査精度を向上させる。2波長レーザーの反射量を別々に測定する。

請求項（抜粋）：

第1レーザーの発振源である第1レーザー源と、第2レーザーの発振源である第2レーザー源と、前記第1レーザーと前記第2レーザーを半導体回路形成用基板の同一点に照射するための光学系と、前記第1レーザーの波長と前記第2レーザーの波長とが異なり前記基板からの前記第1レーザーの反射量と前記第2レーザーの反射量を測定するための反射量測定手段とからなるパーティクル検査装置において、前記基板は基板本体と前記基板本体に形成された形成膜とからなり、前記反射量測定手段は、前記形成膜の上面の第1異物により散乱される前記第1レーザーの第1レーザー散乱光量と前記形成膜の中の第2異物により散乱される前記第2レーザーの第2レーザー散乱光量をそれぞれに測定する測定手段とを備え、更に、前記第1レーザー散乱光量と前記第2レーザー散乱光量とを既知値とし、前記第1異物により散乱される散乱光量と前記第2異物により散乱される散乱光量を未知数とする連立方程式から前記未知数を計算により概ね割り出す計算器とからなるパーティクル検査装置。

IPC (2件)：

G01N 21/88 , H01L 21/66

FI (2件)：

G01N 21/88 E , H01L 21/66 J

引用特許：

審査官引用 (3件)

特開平2-061540
特開平2-061540
特開昭55-020406

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