特許

J-GLOBAL ID：200903008584940855

ダイヤモンド膜の製造方法

発明者： 出口 正洋 ,  平木 昭夫 ,  伊藤 利道 ,  八田 章光 ,  牧田 寛 ,  北畠 真
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 滝本 智之 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-072732
公開番号（公開出願番号）：特開平9-263488
出願日： 1996年03月27日
公開日（公表日）： 1997年10月07日
要約：

【要約】【課題】 ダイヤモンド合成時の核発生を簡便な手法で再現性良くかつ効率的に行なうと共に、所望の領域にのみ良質なダイヤモンド膜を形成する方法を提供する。【解決手段】 基板素材上の一部の領域に平均粒径が0.1μm以下の粒子を分散させた溶液を塗布する。基板素材上にダイヤモンド膜を成長させる。これにより、成長するダイヤモンド膜の均一性や再現性が格段向上すると共に、ダイヤモンド膜成長と同時に、所望のダイヤモンド膜パターンを得ることが可能となる。

請求項（抜粋）：

基板素材上にダイヤモンド膜を選択的に形成する方法であって、基板素材上の一部の領域に平均粒径が0.1μm以下の粒子を分散させた溶液を塗布する工程と、前記基板素材上にダイヤモンド膜を成長させる工程とを含むことを特徴とするダイヤモンド膜の製造方法。

IPC (4件)：

C30B 29/04 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/208 ,  H01L 21/314

FI (4件)：

C30B 29/04 Q ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/208 Z ,  H01L 21/314 A