特許

J-GLOBAL ID：200903008598835817

一酸化炭素除去触媒及びこれを用いた一酸化炭素の除去方法

発明者： 越後 満秋 ,  田畑 健 ,  山▲崎▼ 修
出願人/特許権者： 大阪瓦斯株式会社
代理人 (1件)： 北村 修一郎 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-328446
公開番号（公開出願番号）：特開2002-126521
出願日： 2000年10月27日
公開日（公表日）： 2002年05月08日
要約：

【要約】【課題】 前記一酸化炭素除去触媒の一酸化炭素酸化性能の選択性を向上させ、少ない酸化添加量(低い酸素/一酸化炭素モル比)で一酸化炭素を低濃度(10ppm以下)に除去することができる一酸化炭素除去触媒を提供する。【解決手段】 担体に貴金属を担持させた一酸化炭素除去触媒において、水銀圧入法により測定された全細孔体積(V)と全細孔比表面積(S)とから求められる平均細孔直径(4V/S)が、6nm以上且つ9nm以下であるような細孔構造を有する一酸化炭素除去触媒。

請求項（抜粋）：

担体に貴金属を担持させた一酸化炭素除去触媒において、水銀圧入法により測定された全細孔体積(V)と全細孔比表面積(S)とから求められる平均細孔直径(4V/S)が、6nm以上且つ9nm以下であるような細孔構造を有する一酸化炭素除去触媒。

IPC (6件)：

B01J 23/46 301 ,  B01J 35/10 301 ,  C01B 3/32 ,  C01B 3/38 ,  C10K 3/04 ,  H01M 8/06

FI (6件)：

B01J 23/46 301 M ,  B01J 35/10 301 G ,  C01B 3/32 A ,  C01B 3/38 ,  C10K 3/04 ,  H01M 8/06 G

Fターム (38件)：

4G040EA02 ,  4G040EA03 ,  4G040EA05 ,  4G040EA06 ,  4G040EB31 ,  4G040EB43 ,  4G069AA03 ,  4G069AA08 ,  4G069BA01A ,  4G069BA01B ,  4G069BC70A ,  4G069BC70B ,  4G069BC71A ,  4G069BC72A ,  4G069BC75A ,  4G069CC25 ,  4G069CC29 ,  4G069CC32 ,  4G069DA05 ,  4G069FA02 ,  4G069FB14 ,  4G140EA02 ,  4G140EA03 ,  4G140EA05 ,  4G140EA06 ,  4G140EB31 ,  4G140EB43 ,  4H060AA01 ,  4H060AA04 ,  4H060BB07 ,  4H060BB08 ,  4H060BB11 ,  4H060FF02 ,  4H060GG02 ,  5H027AA04 ,  5H027AA06 ,  5H027BA01 ,  5H027BA16

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 水素含有ガス中のCO除去触媒の製造方法、及びその製造方法で製造された触媒、並びに該触媒を用いる水素含有ガス中のCOの除去方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-058558   出願人：出光興産株式会社
• 改質ガス酸化触媒
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-162412   出願人：田中貴金属工業株式会社, 渡辺政廣