特許
J-GLOBAL ID:200903008604205073

X線回折装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 青木 朗 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平4-101225
公開番号(公開出願番号):特開平5-296946
出願日: 1992年04月21日
公開日(公表日): 1993年11月12日
要約:
【要約】【目的】 本発明はX線回折装置に関し、X線のロスを最小限にし、また従来法に比して簡単な測定系の調節により入射角の変更を可能にする微小角入射条件下でのX線回折装置を実現することを目的とする。【構成】 X線発生手段と、該手段から出射されたX線27を表面で入射されX線回折光を出射する試料26と、該試料を上面において保持し回転可能なステージと、該回折光を検出する検出手段で構成され、該ステージは、該X線入射方向に対し傾斜可能なようにその下面が曲面で構成されており、かつ該ステージの回転軸と該試料の表面との交点が該曲面の回転中心と一致するように構成する。
請求項(抜粋):
X線発生手段と、該手段から出射されたX線を表面で入射されX線回折光を出射する試料と、該試料を上面において保持し回転可能なステージと、該回折光を検出する検出手段で構成され、該ステージは、該X線の入射方向に対し傾斜可能なようにその下面が曲面で構成されており、かつ該ステージの回転軸と該試料の表面との交点が該曲面の回転中心と一致するように構成されていることを特徴とするX線回折装置。
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • X線複合分析装置
    公報種別:公開公報   出願番号:特願平4-186714   出願人:株式会社日立製作所
  • 特開昭63-085434
  • 特開平2-035343
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