特許
J-GLOBAL ID：200903008617782401
電子線源、電子銃、電子線描画装置及びそれを用いたパターン形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-326491
公開番号（公開出願番号）：特開平10-172500
出願日： 1996年12月06日
公開日（公表日）： 1998年06月26日
要約：
【要約】【課題】 高解像の電子線描画装置及びそれを用いたパターン形成方法を実現する。【解決手段】 領域限定型熱電子源をマスク像を試料上に形成する型の電子線応用装置に適用する。【効果】 色収差が低減し解像性が向上する。
請求項（抜粋）：
マスクを透過した電子を試料上に転写する電子線描画装置において電子源に領域限定型熱電子源を用いることを特徴とする電子線描画装置及びそれを用いた描画方法およびパターン形成方法。
IPC (3件)：
H01J 37/305
, H01J 37/06
, H01L 21/027
H01J 37/305 B
, H01J 37/06 Z
, H01L 21/30 541 B
