特許

J-GLOBAL ID：200903008621860387

レジスト洗浄除去用溶剤及びそれを使用する電子部品製造用基材の製造方法

発明者： 大野 勇人 ,  河野 伸一 ,  徳竹 信生 ,  高橋 浩一 ,  小原 秀克 ,  中山 寿昌
出願人/特許権者： 東京応化工業株式会社
代理人 (1件)： 阿形 明 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-132487
公開番号（公開出願番号）：特開平6-324499
出願日： 1993年05月11日
公開日（公表日）： 1994年11月25日
要約：

【要約】【構成】 レジスト洗浄除去用溶剤は、β型プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート溶剤単独又は該溶剤を主成分として含有する溶剤から成る。また、スピンナーによりレジスト形成用塗布物を基材に塗布し、基材の周辺部、縁辺部及び裏面部に付着した不要のレジスト形成用塗布物をこのレジスト洗浄除去用溶剤であらかじめ除去したのち、乾燥処理して電子部品製造用基材を製造しうる。【効果】 上記溶剤は、レジストの溶解性、特に高エステル化度のキノンジアジド系感光性物質を含有してなるポジ型ホトレジストの溶解性に優れ、極めて安全性が高く、しかも溶解性が経時的に安定していて残さや析出物を生じることがない。

請求項（抜粋）：

β型プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテート単独又はβ型プロピレングリコールモノアルキルエーテルアセテートを主成分として含有する溶剤から成るレジスト洗浄除去用溶剤。

IPC (2件)：

G03F 7/42 ,  H01L 21/027

FI (2件)：

H01L 21/30 361 R ,  H01L 21/30 361 W