高レート・コーティング用のスパッタリング装置および方法

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：山川政樹
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-581268
公開番号（公開出願番号）：特表2002-529600
出願日： 1999年09月16日
公開日（公表日）： 2002年09月10日
要約：

【要約】ほぼ均一な化学量論を有する電気絶縁および半導電コーティングの高レート堆積のためのスパッタリング装置(65)および方法。垂直方向に取り付けられたデュアル回転可能円筒形マグネトロン(66)と、それに関連する真空ポンプ(62)が、半隔離スパッタリング・モジュールを形成し、モジュールは、同じまたは異なる材料の層を順次堆積するために個別に制御することができる。任意選択の反応ガス流フィードバック・ループを備えるAC電源の定電圧動作が、基材運動によって生じるポンピング速度が小さく変化する間、一定のコーティング化学量論を保つ。コーティング方法は、長期(数日)の動作にわたって非常に安定しており、被膜化学量論は、電圧制御点によって選択可能である。装置(65)は、ウェハ状基材を一括して被覆するためにモジュールを円形配列の形態にすることができ、あるいは大きなプレーナ基材を被覆するためにモジュールを直線状に配列することができる。

請求項（抜粋）：

ターゲット材にエロージョンを生じさせて基材上に堆積するマグネトロン・システムであって: 第1及び第2の円筒形チューブ状のターゲットを備え、それぞれのターゲットはその中心軸線を中心に回転自在であり、それら第1及び第2のターゲットは、それらの軸線が相互に平行であって且つそれらの表面が相互に接近した状態に、配置されており; 前記第1及び第2のターゲットそれぞれ中に、それぞれの長さに沿って配置された第1及び第2のマグネット・アセンブリを備え、各マグネット・アセンブリは各ターゲットの外表面上に磁界のレーストラックを与えるよう構成され、前記磁界のレーストラックは、各ターゲットのターゲット材がターゲットの長さに沿った相互に平行状の一対のエロージョン・ゾーンからエロージョンが生じるよう、プラズマ・ガスを閉じこめ、前記一対のエロージョン・ゾーンは各ターゲットのソース面を定め、各マグネット・アセンブリは、各ターゲットの平行状の一対のエロージョン・ゾーン相互の距離を固定するよう構成されて各ターゲット用にターゲット材フラックスの領域を生成するものであり; 各ターゲットからの全ターゲット・フラックスのより多くの部分が、すなわち各ターゲット上の単一のゾーンからの場合に比べてより多くの部分が、前記基材へのターゲット材の堆積に使用され; 前記マグネット・アセンブリの相互の向きは、前記基材の位置において、前記ソース面にそれぞれ垂直で前記ターゲットの軸線をそれぞれ通る1対の平面の相互間に内角が形成され、各ターゲットのターゲット材フラックスは、組合わされれることにより、前記基材の位置に、ターゲット個々による場合に比べてより広い領域にわたって一様なフラックスが生成されることを特徴とするマグネトロン・システム。

IPC (3件)：

C23C 14/35 , C23C 14/34 , G11B 5/84

FI (3件)：

C23C 14/35 A , C23C 14/34 B , G11B 5/84 B

Fターム (13件)：

4K029BA43 , 4K029BA58 , 4K029BD01 , 4K029BD04 , 4K029BD11 , 4K029CA05 , 4K029DC13 , 4K029DC16 , 4K029DC22 , 4K029DC43 , 5D112AA07 , 5D112BC05 , 5D112FB14

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