特許
J-GLOBAL ID：200903008627286640

導電性高分子の製造方法

発明者：
塩野 和司

塩野 和司 について

, 
加田 宗加

加田 宗加 について


出願人/特許権者：
三洋化成工業株式会社

三洋化成工業株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-345164
公開番号（公開出願番号）：特開2003-226743
出願日： 2002年11月28日
公開日（公表日）： 2003年08月12日
要約：
【要約】【課題】 金属塩含有量が低く、電導度が高い導電性高分子を製造する方法を提供する。【解決手段】 N-ヒドロキシフタルイミド等のイミド化合物(A)と、必要により金属化合物及び/又はホウ素化合物である助触媒(B)で構成された酸化触媒を用いて、酸素と接触させて、共役二重結合を有するポリマーを生成可能な重合性モノマー(C)を重合することを特徴とする導電性高分子(D)の製造方法。
請求項（抜粋）：
下記一般式(1)で表されるイミド化合物(A)、又は(A)と金属及び/又は金属化合物及び/又はホウ素化合物である助触媒(B)から構成される酸化触媒と酸素の接触下に、共役二重結合を有するポリマーを生成可能な重合性モノマー(C)を重合させることを特徴とする導電性高分子(D)の製造方法。【化1】[式中、Qは、2n価の有機基であり、ハロゲン基、ヒドロキシル基、アルコキシ基、カルボキシル基、アルコキシカルボニル基、もしくはアシル基を有していてもよく、また窒素、酸素及び硫黄原子を含有していてもよい炭化水素基である。Xはヒドロキシル基又は酸素原子を示し、nは1〜3の整数を示す。]
IPC (3件)：
C08G 61/00 ,  C08G 73/00 ,  H01G 9/028
FI (5件)：
C08G 61/00 ,  C08G 73/00 ,  H01G 9/02 331 H ,  H01G 9/02 331 F ,  H01G 9/02 331 G
Fターム (27件)：
4J032BA03 ,  4J032BA04 ,  4J032BA08 ,  4J032BA13 ,  4J032BB01 ,  4J032BC02 ,  4J032BC03 ,  4J032CA03 ,  4J032CA12 ,  4J032CA62 ,  4J032CD01 ,  4J032CD07 ,  4J032CE03 ,  4J032CG01 ,  4J043PA01 ,  4J043QB02 ,  4J043RA08 ,  4J043SA05 ,  4J043SB01 ,  4J043UA121 ,  4J043VA041 ,  4J043XA11 ,  4J043XA28 ,  4J043XB11 ,  4J043YB05 ,  4J043ZA44 ,  4J043ZB47
引用特許：
出願人引用 (1件) 審査官引用 (3件)

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