特許
J-GLOBAL ID:200903008631981077

単分散陰イオン交換体

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小田島 平吉
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-350909
公開番号(公開出願番号):特開2003-211003
出願日: 2002年12月03日
公開日(公表日): 2003年07月29日
要約:
【要約】【課題】 ビーズの高い機械的および浸透の安定性、使用におけるビーズ床の低い圧力低下および少ない洗浄水の消費量。【解決手段】 ポリ(メタ)アクリルアミド型の単分散の弱塩基性もしくは場合によっては強塩基性陰イオン交換体の製造方法、イオン交換体それら自身およびそれらの提供。
請求項(抜粋):
a)第一段階で、1種もしくはそれ以上の異なるアクリル酸化合物および1種もしくはそれ以上の異なる架橋剤または1種もしくはそれ以上の異なるモノビニル芳香族化合物および1種もしくはそれ以上の異なる架橋剤の単量体混合物を、該単量体混合物と本質的に混合不可能な液体中に注入もしくは噴霧して液滴を形成し、該液滴をその後封入かつ重合し、そして該封入かつ重合された液滴をその後、種供給法でアクリル酸化合物および架橋剤の供給材料と反応させ、そして生じる生成物を重合して、単分散架橋アクリル酸ポリマービーズもしくは単分散架橋アクリル含有ポリマービーズを形成し、ならびにb)段階a)により得られた生成物をその後、ジアミン型の液体アミン中に導入して懸濁液を形成し、該懸濁液を100°Cより上の温度に加熱し、場合によっては蒸留し、数時間攪拌し、そして生じるアミノ化ビーズポリマーを、アミンを含まないように洗浄する、ポリ(メタ)アクリルアミド型の単分散弱塩基性陰イオン交換体の製造方法。
IPC (2件):
B01J 41/14 ,  C08F 8/32
FI (2件):
B01J 41/14 C ,  C08F 8/32
Fターム (22件):
4J100AB04R ,  4J100AB15Q ,  4J100AB16Q ,  4J100AE76Q ,  4J100AL02P ,  4J100AL03P ,  4J100AL62Q ,  4J100AL63Q ,  4J100AL75Q ,  4J100AM02P ,  4J100BA02Q ,  4J100CA04 ,  4J100CA23 ,  4J100CA31 ,  4J100DA28 ,  4J100EA05 ,  4J100FA21 ,  4J100FA39 ,  4J100HA31 ,  4J100HC43 ,  4J100HC46 ,  4J100HE32
引用特許:
審査官引用 (4件)
  • 特開平4-226508
  • 特開昭57-073002
  • 特開昭59-098117
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