特許

J-GLOBAL ID：200903008637060410

薄膜磁気ヘッドおよびその製造方法

発明者： 大塚 善徳
出願人/特許権者： 富士通株式会社
代理人 (1件)： 山▲崎▼ 薫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-272712
公開番号（公開出願番号）：特開2000-099916
出願日： 1998年09月28日
公開日（公表日）： 2000年04月07日
要約：

【要約】【課題】 誘導書き込みヘッド素子の上部副磁極の厚みを正確に設定することができる薄膜磁気ヘッドの製造方法を提供する。【解決手段】 下部磁極層29上にギャップ層31を成膜する。ギャップ層31上に、上部磁極小片38となる磁性膜と、非磁性膜47となる非磁性膜とを形成する。その後、上部磁極小片38をマスクに用いて、下部磁極層29から下部磁極小片37を削り出す。続いて、非磁性膜47を完全に覆うように下部磁極層29表面に非磁性絶縁膜を成膜する。非磁性絶縁膜に平坦化研摩を施し、非磁性膜47を露出させる。露出した非磁性膜47を除去し上部磁極小片38を露出させる。平坦研摩の際に上部磁極小片38が削られることはなく、上部副磁極の厚みを正確に設定することに寄与することができる。

請求項（抜粋）：

誘導書き込みヘッド素子の下部磁極層を形成する工程と、下部磁極層上にギャップ層を形成する工程と、ギャップ層上に上部磁極小片を形成する工程と、上部磁極小片上に非磁性膜を形成する工程と、上部磁極小片および非磁性膜を覆う非磁性絶縁膜を形成する工程と、非磁性絶縁膜を平坦化処理して非磁性膜を露出させる工程と、露出した非磁性膜を除去して上部磁極小片を露出させる工程と、露出した上部磁極小片上に上部磁極パターンを形成する工程とを備えることを特徴とする薄膜磁気ヘッドの製造方法。

FI (2件)：

G11B 5/31 C ,  G11B 5/31 D

Fターム (4件)：

5D033BA12 ,  5D033CA02 ,  5D033DA04 ,  5D033DA08