特許

J-GLOBAL ID：200903008639538008

露光装置

発明者： 中村 剛 ,  後藤 禎
出願人/特許権者： 日本精工株式会社
代理人 (2件)： 田村 敬二郎 ,  小林 研一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-225193
公開番号（公開出願番号）：特開2007-041269
出願日： 2005年08月03日
公開日（公表日）： 2007年02月15日
要約：

【課題】 低コストでもマスクを高精度に安定して保持できる露光装置を提供する。 【解決手段】 マスクMと基板Wとの接近移動によりその間に発生した陽圧を、吐出口Haより気体を吐出させて得られるエアカーテン効果により維持することで、マスクMの自重による撓みをキャンセルした状態で、高精度な露光を行うことができる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

パターンを形成したマスクを保持するマスク保持部と、基板を保持する基板保持部とを有し、光源からの光を前記マスクに照射することにより、前記パターンを前記基板に露光する露光装置において、 少なくとも露光時に、前記マスクと前記基板との間に所定の陽圧を形成することを特徴とする露光装置。

IPC (3件)：

G03F 7/20 ,  H01L 21/027 ,  G02F 1/13

FI (3件)：

G03F7/20 501 ,  H01L21/30 511 ,  G02F1/13 101

Fターム (17件)：

2H088EA67 ,  2H088FA16 ,  2H088FA17 ,  2H088FA18 ,  2H088FA24 ,  2H088FA30 ,  2H088HA01 ,  2H088HA02 ,  2H088HA05 ,  2H088HA06 ,  2H088HA08 ,  2H088MA03 ,  2H097BA02 ,  2H097GA45 ,  2H097LA11 ,  5F046BA02 ,  5F046DA17

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 露光装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平10-348660   出願人：サンエー技研株式会社