特許
J-GLOBAL ID：200903008657633239
3-アルキル-3-ヒドロキシメチルオキセタンの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高橋 勝利
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-015663
公開番号（公開出願番号）：特開2000-273093
出願日： 2000年01月25日
公開日（公表日）： 2000年10月03日
要約：
【要約】【課題】 本発明が解決しようとする課題は、二次生成物を分離するための追加的精製工程を必要とせずに、特に臭気のあるアクロレイン等の二次生成物を含有しない、高純度なヒドロキシアルキルオキセタンの簡便な製造方法を提供することである。【解決手段】 塩基触媒の存在下で、(HO-CH2)3C-R1(R1は炭素数1〜12のアルキル基)のトリメチロールアルカンを、R2O-(CO)-OR2(R2は炭素数1〜4のアルキル基す)のジアルキルカーボネートと反応させる工程を含み、第1段階で90〜120°Cの温度で還流攪拌し、第2段階で生成されたアルコールを同じ温度で蒸留除去し、第3段階で生成物を125〜150°Cの温度で脱カルボキシル化し脱オリゴマー化し同時に蒸留除去する、【化1】(R1は炭素数1〜12のアルキル基)の3-アルキル-3-ヒドロキシメチルオキセタンの製造方法。
請求項（抜粋）：
塩基触媒の存在下で一般式2【化1】(HO-CH2)3C-R1(式中、R1は直鎖又は分岐鎖の炭素数1〜12のアルキル基を表す)のトリメチロールアルカンを一般式3【化2】R2O-(CO)-OR2(式中、R2は、直鎖又は分岐鎖の炭素数1〜4のアルキル基を表す)のジアルキルカーボネートと反応させる工程を含み、第1の段階で90〜120°Cの温度で還流攪拌し、第2の段階で生成されたアルコールR2OHを同じ温度で蒸留除去し、第3の段階で生成された生成物を125〜150°Cの温度で脱カルボキシル化し脱オリゴマー化し、必要な3-アルキル-3-ヒドロキシメチルオキセタンを同時に蒸留除去する、一般式1【化3】(式中、R1は直鎖又は分岐鎖の炭素数1〜12のアルキル基を表す)の3-アルキル-3-ヒドロキシメチルオキセタンの製造方法。
Fターム (5件)：
4C048TT02
, 4C048UU03
, 4C048UU05
, 4C048XX02
, 4C048XX03
