特許

J-GLOBAL ID：200903008674432980

拡散反射板、カラーフィルタ、フォトマスク、及び、拡散反射板の製造方法

発明者： 佐藤 行一 ,  藤井 幸男
出願人/特許権者： 新エスティーアイ テクノロジー株式会社
代理人 (4件)： 長谷川 芳樹 ,  塩田 辰也 ,  寺崎 史朗 ,  三上 敬史
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-146725
公開番号（公開出願番号）：特開2004-347990
出願日： 2003年05月23日
公開日（公表日）： 2004年12月09日
要約：

【課題】色付きを低減できる拡散反射板、これを用いたカラーフィルタ、この拡散反射板の製造に使用するフォトマスク、および、この拡散反射板の製造方法を提供する。【解決手段】同一の外形寸法を有すると共に表面に同一の凹凸パターン22aが形成された単位反射領域Pを複数有し、単位反射領域Pが所定方向に沿って隣接して繰り返し配置された拡散反射板22において、所定方向に沿う単位反射領域Pの幅を600μm以上とする。また、同一の外形寸法を有すると共に複数の光透過部を含む同一のマスクパターンが形成された単位マスク領域を複数有し、単位マスク領域が所定方向に沿って隣接して繰り返し配置されたフォトマスクにおいて、所定方向における前記単位マスク領域の幅が600μm以上であるフォトマスクを用い、フォトリソグラフィー法を用いて拡散反射板を形成する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

同一の外形寸法を有すると共に表面に同一の凹凸パターンが形成された単位反射領域を複数有し、前記単位反射領域が所定方向に沿って隣接して繰り返し配置された拡散反射板において、 前記所定方向に沿う前記単位反射領域の幅が、600μm以上である拡散反射板。

IPC (4件)：

G02B5/08 ,  G02B5/02 ,  G02B5/20 ,  G02F1/1335

FI (5件)：

G02B5/08 B ,  G02B5/02 C ,  G02B5/20 101 ,  G02F1/1335 505 ,  G02F1/1335 520

Fターム (31件)：

2H042AA02 ,  2H042AA26 ,  2H042BA04 ,  2H042BA20 ,  2H042DA02 ,  2H042DA04 ,  2H042DA11 ,  2H042DC02 ,  2H048BA02 ,  2H048BA43 ,  2H048BB02 ,  2H048BB42 ,  2H091FA02Y ,  2H091FA08X ,  2H091FA14Y ,  2H091FA15Y ,  2H091FA16Y ,  2H091FA41Z ,  2H091FB02 ,  2H091FC01 ,  2H091FC10 ,  2H091FD04 ,  2H091FD05 ,  2H091FD06 ,  2H091FD22 ,  2H091FD23 ,  2H091FD24 ,  2H091GA13 ,  2H091KA10 ,  2H091LA15 ,  2H091LA21

引用特許：

審査官引用 (2件)

• マスク、光反射膜付基板、光反射膜の形成方法、電気光学装置の製造方法、及び電気光学装置、並びに電子機器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-108526   出願人：セイコーエプソン株式会社
• 反射板、反射型表示装置および電子機器
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2003-054826   出願人：オムロン株式会社