シクロドデカノ-ル及びシクロドデカノンの製造法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-372794
公開番号（公開出願番号）：特開2000-191565
出願日： 1998年12月28日
公開日（公表日）： 2000年07月11日
要約：

【要約】【課題】本発明は、即ち、パラジウム又はルテニウム触媒の存在下、エポキシシクロドデカン類に水素を接触させて、シクロドデカノール及びシクロドデカノンを高収率で製造する方法を提供することを課題とする。【解決手段】本発明の課題は、パラジウム又はルテニウム触媒の存在下、エポキシシクロドデカン類に水素を接触させて、シクロドデカノール及びシクロドデカノンを製造する際、反応水素圧を5〜100kg/cm2・G、反応温度を100〜200°Cにすることを特徴とするシクロドデカノール及びシクロドデカノンの製造法によって解決される。

請求項（抜粋）：

パラジウム又はルテニウム触媒の存在下、エポキシシクロドデカン類に水素を接触させて、シクロドデカノール及びシクロドデカノンを製造する際、反応水素圧を5〜100kg/cm2・G、反応温度を100〜200°Cにすることを特徴とするシクロドデカノール及びシクロドデカノンの製造法。

IPC (8件)：

C07C 27/04 , B01J 23/44 , B01J 23/46 301 , C07C 29/132 , C07C 35/205 , C07C 45/58 , C07C 49/413 , C07B 61/00 300

FI (8件)：

C07C 27/04 , B01J 23/44 X , B01J 23/46 301 X , C07C 29/132 , C07C 35/205 , C07C 45/58 , C07C 49/413 , C07B 61/00 300

Fターム (24件)：

4H006AA02 , 4H006AC41 , 4H006AC44 , 4H006AD11 , 4H006BA23 , 4H006BA25 , 4H006BA71 , 4H006BB11 , 4H006BB14 , 4H006BB15 , 4H006BB17 , 4H006BB25 , 4H006BC10 , 4H006BC11 , 4H006BE20 , 4H006BJ10 , 4H006BN20 , 4H006BR70 , 4H006FC20 , 4H006FE12 , 4H039CA60 , 4H039CA62 , 4H039CC20 , 4H039CJ10

引用特許：

審査官引用 (2件)

特公昭47-038437
特開昭61-189244

引用文献：

審査官引用 (2件)

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