特許
J-GLOBAL ID：200903008683374527

シリンダブロックの溶射方法

発明者：
高橋 正志

高橋 正志 について

, 
國岡 誠也

國岡 誠也 について


出願人/特許権者：
スズキ株式会社

スズキ株式会社 について


代理人 (1件)： 奥山 尚一 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-084403
公開番号（公開出願番号）：特開2002-285313
出願日： 2001年03月23日
公開日（公表日）： 2002年10月03日
要約：
【要約】【課題】 特にクランクケースのない型式のシリンダブロックにおいて、複数個同時にそれらのボア面に溶射することにより、生産性が高く、かつ品質に優れたシリンダブロックの溶射方法を提供する。【解決手段】 シリンダブロック3のボア面1に溶射を施すシリンダブロックの溶射方法において、前記シリンダブロック1のボア端部同士に間隔を設けるステップと、この間隔を設けた状態でボア面1に対して溶射フレーム33を噴射するステップとを含んでなる溶射方法である。このボア端部同士に間隔を設ける方法としては、ボア5の軸方向端部の一方側を周方向に沿って面取り加工する方法や、シリンダブロック3,3同士をその軸方向に離して配設する方法がある。
請求項（抜粋）：
シリンダブロックのボア面に溶射を施すシリンダブロックの溶射方法において、複数のシリンダブロックを、そのボア合せ部に隙間を設けて軸方向に積み重ねるステップと、この状態でボア面に対して溶射フレームを噴射するステップとを含んでなるシリンダブロックの溶射方法。
IPC (3件)：
C23C 4/02 ,  C23C 4/12 ,  F02F 1/00
FI (3件)：
C23C 4/02 ,  C23C 4/12 ,  F02F 1/00 R
Fターム (21件)：
3G024AA22 ,  3G024AA31 ,  3G024AA33 ,  3G024AA36 ,  3G024AA37 ,  3G024AA42 ,  3G024BA18 ,  3G024CA20 ,  3G024DA16 ,  3G024FA06 ,  3G024FA14 ,  3G024GA19 ,  3G024GA35 ,  3G024HA07 ,  4K031AA02 ,  4K031AB02 ,  4K031DA01 ,  4K031EA02 ,  4K031EA04 ,  4K031EA05 ,  4K031EA09
引用特許：
審査官引用 (7件)
  • 特開昭54-003609
  • 特開昭55-134166
  • 特開昭54-162635
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