特許
J-GLOBAL ID：200903008689712963
固定化Rhクラスター錯体触媒及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三枝 英二 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-036254
公開番号（公開出願番号）：特開平5-237393
出願日： 1992年02月24日
公開日（公表日）： 1993年09月17日
要約：
【要約】【構成】シリカ担体がホスフィンによりエーテル結合を介して修飾され、且つ該ホスフィン部位にRhクラスター錯体が化学的に固定化されてなることを特徴とする固定化Rhクラスター錯体触媒、及びその製造方法。【効果】ホスフィンを介してRhクラスター錯体をシリカ担体上に化学的に固定化してなる固定化Rhクラスター錯体触媒及びその製造方法が提供される。当該触媒は、Rhクラスター錯体本来の構造ひいては高活性能を保持したまま担体に化学的に固定化されているため、実用上重要な不均一系反応の触媒として有用である。
請求項（抜粋）：
シリカ担体がホスフィンによりエーテル結合を介して修飾され、且つ該ホスフィン部位にRhクラスター錯体が化学的に固定化されてなることを特徴とする固定化Rhクラスター錯体触媒。
IPC (3件)：
B01J 31/20
, C07B 61/00 300
, C07C 47/02
