特許
J-GLOBAL ID:200903008697708371

水酸化ニッケルの製造方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 小川 順三 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-179247
公開番号(公開出願番号):特開平10-025117
出願日: 1996年07月09日
公開日(公表日): 1998年01月27日
要約:
【要約】【課題】 充填密度を高めるための球状化および粒度分布制御が容易に行える水酸化ニッケルの製造方法を提供すること。【解決手段】 反応槽に、ニッケル塩水溶液、アンモニア水および水酸化アルカリ水溶液を一定速度で連続的に供給し、攪拌条件の下で水酸化ニッケルを反応生成させる一方で、反応槽内の液量が所定量に達した後は、反応溶液の一部をポンプで汲み上げて固液分離装置に供給し、それの媒体液を連続的に除去して濃縮したスラリーのみを再び反応槽へと戻すことにより、反応槽内の液面を一定に保ち、反応槽内のスラリー濃度が所定濃度に達した後は、固液分離装置へ供給して濃縮する水酸化ニッケルスラリーの一部を連続的または間欠的に反応系外に取り出すことにより、反応槽内のスラリー濃度を所定の範囲に制御することを特徴とする水酸化ニッケルの製造方法である。
請求項(抜粋):
反応槽に、ニッケル塩水溶液、アンモニア水および水酸化アルカリ水溶液を一定速度で連続的に供給し、攪拌条件の下で水酸化ニッケルを反応生成させる一方で、反応槽内の液量が所定量に達した後は、反応溶液の一部をポンプで汲み上げて固液分離装置に供給し、それの媒体液を連続的に除去して濃縮したスラリーのみを再び反応槽へと戻すことにより、反応槽内の液面を一定に保つことを特徴とする水酸化ニッケルの製造方法。
IPC (2件):
C01G 53/04 ,  H01M 4/52
FI (2件):
C01G 53/04 ,  H01M 4/52

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