ガス濃度検出方法及びその装置

発明者： , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：絹谷信雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-235453
公開番号（公開出願番号）：特開平8-101123
出願日： 1994年09月29日
公開日（公表日）： 1996年04月16日
要約：

【要約】【目的】ドリフト性の背景雑音を除去し、レーザの経時変化を補償できるガス濃度検出方法及びその装置を提供する。【構成】駆動電流及び温度に応じた波長及び強度のレーザ光を発振するレーザを用い、駆動電流を変調することにより波長及び強度が変調されたレーザ光を発振させ、かつ駆動電流を掃引することによりレーザ光の中心波長を掃引させ、そのレーザ光を測定対象であるガス雰囲気に通して透過光を受光し、この受光信号の特定成分を位相敏感検波してガスの濃度を検出するガス濃度検出方法において、上記レーザ光の一部をガス雰囲気に通さず直接受光し、ガス雰囲気透過光の検波成分と直接光の検波成分との差からガスの濃度を検出する。

請求項（抜粋）：

駆動電流及び温度に応じた波長及び強度のレーザ光を発振するレーザを用い、駆動電流を変調することにより波長及び強度が変調されたレーザ光を発振させ、かつ駆動電流を掃引することによりレーザ光の中心波長を掃引させ、そのレーザ光を測定対象であるガス雰囲気に通して透過光を受光し、この受光信号の特定成分を位相敏感検波してガスの濃度を検出するガス濃度検出方法において、上記レーザ光の一部をガス雰囲気に通さず直接受光し、ガス雰囲気透過光の検波成分と直接光の検波成分との差からガスの濃度を検出することを特徴とするガス濃度検出方法。

IPC (3件)：

G01N 21/39 , G01N 21/35 , G01N 21/59

引用特許：

審査官引用 (4件)

ガス濃度測定方法およびその測定装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-052648 出願人：東京電力株式会社, 日立電線株式会社
半導体レーザーを用いた水分分析装置
公報種別：公開公報出願番号：特願平3-260859 出願人：日本酸素株式会社, 竹内延夫
特開平2-163603

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