特許
J-GLOBAL ID：200903008758897938
基板洗浄・乾燥装置及び方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
三好 秀和 (外3名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-337413
公開番号（公開出願番号）：特開平11-176798
出願日： 1997年12月08日
公開日（公表日）： 1999年07月02日
要約：
【要約】【課題】 ウォーターマークの発生を抑制することができ、しかもパーティクルの再吸着を防止することのできる基板洗浄・乾燥装置及び方法を提供する。【解決手段】 同一チャンバー27内で基板1の薬液・純水洗浄と乾燥とを行う基板洗浄・乾燥装置であって、チャンバー27内に、配列された複数の基板1を薬液または純水に浸す処理槽17と、処理槽17内の純水上に水蒸気層33を形成する手段29と、水蒸気層33上部に基板1の表面上の水分と置換される乾燥蒸気層1を形成する手段19とを備え、処理槽17から引き上げられた基板1の表面を、前記水蒸気、前記乾燥蒸気の順で晒すように構成される。
請求項（抜粋）：
同一チャンバー内で基板の薬液・純水洗浄と乾燥とを行う基板洗浄・乾燥装置において、前記チャンバー内に、配列された複数の基板を薬液または純水に浸す処理槽と、前記処理槽内の純水上に水蒸気層を形成する手段と、前記水蒸気層上部に基板表面上の水分と置換される乾燥蒸気層を形成する手段とを備え、前記処理槽から引き上げられた前記基板の表面が、前記水蒸気、前記乾燥蒸気の順で晒されることを特徴とする基板洗浄・乾燥装置。
IPC (2件)：
H01L 21/304 651
, H01L 21/304
H01L 21/304 651 J
, H01L 21/304 651 H
