特許
J-GLOBAL ID：200903008771844061
投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
大森 聡
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-213669
公開番号（公開出願番号）：特開平8-078313
出願日： 1994年09月07日
公開日（公表日）： 1996年03月22日
要約：
【要約】【目的】 マスク上のパターンを投影光学系を介して感光性の基板上に露光する投影露光装置において、投影倍率を短時間に且つ高精度に検出する。【構成】 レチクルステージ5上及びウエハステージ上の所定位置にそれぞれ第1の基準プレート9及び第2の基準プレートを設け、第1の基準プレート9上に形成した第1の基準パターンMM1の左右対の基本マーク60a,60bと、第2の基準プレート上に形成した第2の基準パターンを投影光学系を介してレチクルステージ5上に投影した投影像の左右対の基本マークとを重ね合わせて左右対の観察光学系で観察してそれぞれのX方向のずれを計測し、その計測値から投影倍率の変動を算出する。
請求項（抜粋）：
露光用の照明光のもとで、マスク上に形成された転写用のパターンの所定部分の像を投影光学系を介して感光性の基板上に投影する投影露光装置において、前記マスクを保持して前記マスクを前記投影光学系の光軸に垂直な平面上で第1の方向に移動させるマスクステージと、該マスクステージ上に配置され第1の基準マークが形成された第1の基準部材と、前記基板を保持して前記基板を前記投影光学系の光軸に垂直な平面上で前記第1の方向に対応する第2の方向に移動させる基板ステージと、該基板ステージ上に配置され第2の基準マークが形成された第2の基準部材と、前記第1及び第2の基準マークの一方の基準マークと、該一方の基準マークと異なる他方の基準マークの前記投影光学系を介した像との相対的な位置ずれ量を検出するマーク検出手段と、を有することを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
