特許

J-GLOBAL ID：200903008772872859

走査光学装置

発明者： 高山 英美
出願人/特許権者： キヤノン株式会社
代理人 (1件)： 日比谷 征彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-084716
公開番号（公開出願番号）：特開平9-243945
出願日： 1996年03月13日
公開日（公表日）： 1997年09月19日
要約：

【要約】【目的】 スポットを微小化し焦点深度を増大させる。【構成】 コリメータレンズとシリンドリカルレンズの間に遮光部付き絞り24を配置する。ガラスの基体24aには、外側遮光部24bによる絞り部と、内側遮光部24cによる遮光部が例えば蒸着により形成されている。外側遮光部24bでは、光軸に配置される点Pを中心とする半径R1の円の外側が遮光され、半径R1はレーザー光を微小化し得る大きさとされている。内側遮光部24cでは、点Pを中心とし半径R1よりも小さい半径R2の円の内側が遮光されている。内側遮光部24cの面積は、内側遮光部24cと透光部24dを合計した面積の6割以内とされている。

請求項（抜粋）：

半導体レーザー光源からのレーザー光を平行光にするコリメータレンズと、該コリメータレンズからのレーザー光を線状光にするシリンドリカルレンズと、該シリンドリカルレンズからのレーザー光を偏向する回転ミラーと、該回転ミラーからのレーザー光をスポット像の走査に変換する走査レンズとを有する走査光学装置において、前記コリメータレンズとシリンドリカルレンズの間に、前記コリメータレンズからのレーザー光の外形を円形状に規制する絞り手段と、該絞り手段の透光部の中心近傍を遮光する遮光手段とを設け、該遮光手段の遮光部の面積は前記絞り手段の透光部の面積の6割以下にしたことを特徴とする走査光学装置。

IPC (6件)：

G02B 26/10 ,  G02B 26/10 102 ,  B41J 2/44 ,  G02B 5/00 ,  G02B 13/00 ,  G02B 13/18

FI (7件)：

G02B 26/10 D ,  G02B 26/10 102 ,  G02B 5/00 A ,  G02B 5/00 B ,  G02B 13/00 ,  G02B 13/18 ,  B41J 3/00 D

引用特許：

審査官引用 (1件)

• 走査光学装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-317741   出願人：ブラザー工業株式会社