特許

J-GLOBAL ID：200903008817337968

パターンマッチング方法

発明者： 宮治 伸 ,  安富 文夫
出願人/特許権者： 三洋電機株式会社
代理人 (1件)： 西野 卓嗣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-320701
公開番号（公開出願番号）：特開平6-168331
出願日： 1992年11月30日
公開日（公表日）： 1994年06月14日
要約：

【要約】 (修正有)【目的】 撮影画像内に対象物の類似物が存在する場合でも、短時間にかつ正確に対象物の位置を検出できるパターンマッチング方法を提供する。【構成】 撮影画像は画像メモリ101に格納され、テンプレートメモリ102には基準画像が記憶されている。相関係数演算位置制御手段103は、撮影画像とテンプレート画像との相関係数の演算を行う両画像の相対位置を決定する。画像データ読出手段104は、相関係数演算位置制御手段103によって指定されたアドレスに応じて、画像メモリ101から撮影画像中のテンプレート画像と同じ大きさの部分画像を読み出すとともにテンプレートメモリ102からテンプレート画像を読出して相関係数演算手段105に送る。相関係数演算手段105は送られてきた撮影画像の部分画像およびテンプテート画像との正規化相関係数を演算する。

請求項（抜粋）：

対象物の撮影画像に対して基準画像を移動させて両画像のマッチング度を算出していくことにより、マッチング位置を探索するパターンマッチング方法において、基準画像を所要の移動ステップ量ずつ移動させるごとに、撮影画像と基準画像とのマッチング度を演算していき、算出されたマッチング度が所定の第1基準値以上であるマッチング度演算位置のすべてを一次マッチング候補点とする第1ステップ、および、第1ステップによって検出された一次マッチング候補点を中心とする所定領域内において撮影画像と基準画像とのマッチング度が最大となる二次マッチング候補点を一次マッチング候補点ごとに順次探索していき、一次マッチング候補点に対する二次マッチング候補点が見つけられる度に、見つけられた二次マッチング候補点のマッチング度が第2基準値以上であるか否かを判別し、当該二次マッチング候補点のマッチング度が第2基準値以上であるときには、当該二次マッチング候補点を真のマッチング位置と決定する第2ステップ、を備えていることを特徴とするパターンマッチング方法。

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭57-134763
  
• 特開平3-110685
  
• 特開昭63-042406
  
• 特開平1-289696