特許
J-GLOBAL ID:200903008824283768
投影露光方法
発明者:
,
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
山川 政樹
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平8-068547
公開番号(公開出願番号):特開平9-260255
出願日: 1996年03月25日
公開日(公表日): 1997年10月03日
要約:
【要約】【課題】 原図基板上のパタンを投影光学系を介して被露光基板上に形成したレジストに投影露光し、現像などを経て原図基板上のパタンに対応するレジストパタンを形成するときに、より微細なパターンを形成できるようにすることを目的とする。【解決手段】 反射防止膜3をもちいることによりシリコンウエハ1からの投影光の反射率を0.5%以下とする。また、レジスト膜4は、3t0 以下と非常に薄くする。そして、0.61≦σm ≦0.73,0.05≦Δσ≦0.15、または、σm >0.73、σout ≦0.95,0.05≦Δσ≦0.15の円環状2次光源を用いて露光する。
請求項(抜粋):
円環状に光強度の強い部分を成形した波長λの光を原図基板に照射する円環状2次光源と、前記原図基板上のパタンを被露光基板上に投影し、前記パタンの像を被露光基板上に形成する投影光学系とを有する投影露光装置により、その投影した投影光に感光して屈折率がnのレジストを用いて前記原図基板上のパタンを前記レジストに転写する投影露光方法において、前記円環状2次光源の外径に等しい直径を有する円形2次光源に対応する部分コヒーレンス係数と、前記円環状2次光源の内径に等しい直径を有する円形2次光源に対応する部分コヒーレンス係数との平均値を0.61以上0.73以下とし、前記円環状2次光源の外径に等しい直径を有する円形2次光源に対応する部分コヒーレンス係数と、前記円環状2次光源の内径に等しい直径を有する円形2次光源に対応する部分コヒーレンス係数との差の1/2を0.05以上0.15以下の値とし、前記被露光基板からの前記投影光の反射率を5%以下にして前記レジスト膜を3・λ/(2n)以下の厚さに形成し、前記原図基板上のパタンを前記レジスト膜に投影露光して転写することを特徴とする投影露光方法。
IPC (3件):
H01L 21/027
, G02B 1/12
, G03F 7/20 521
FI (4件):
H01L 21/30 515 D
, G02B 1/12
, G03F 7/20 521
, H01L 21/30 574
前のページに戻る