特許

J-GLOBAL ID：200903008824967829

廃棄物処理炉

発明者： 横田 恵文 ,  宮城 忠之 ,  砂川 正和
出願人/特許権者： 株式会社沖創建設
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-115451
公開番号（公開出願番号）：特開2006-289296
出願日： 2005年04月13日
公開日（公表日）： 2006年10月26日
要約：

【課題】 廃棄物処理の過程において、廃棄物の処理が不均一で不完全な処理が発生すること、また、処理効率が期待値よりも低いことを改善することを解決課題とする。【解決手段】 廃棄物が投入される6面体状の密閉容器2と、この上部に設けられて内部の発生ガスを排気する排気口3と、密閉容器に設けられてその内部に微量空気を送り込む給気口4と、この給気口を挟むように設けられて、給気通路を横切る磁場を形成する一対の磁石5とを備えた廃棄物処理炉1であって、前記排気口が、密閉容器の上壁6で、第1の側壁7aに近接して設けられ、給気口が第1の側壁7aと対向する第2の側壁7bの下部両側にそれぞれ設けられ、それぞれの給気口が、第2の側壁の下縁Aおよび各側縁Bと、これらの各縁から内側に200mmの間隔で設けられる仮想平行線X・Yとで囲まれる領域G内に設けられていることを特徴とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

廃棄物が投入される6面体状の密閉容器と、この密閉容器の上部に設けられて、この密閉容器内の発生ガスを排気する排気口と、前記密閉容器に設けられて、この密閉容器内に微量空気を送り込む給気口と、この給気口から前記密閉容器の外部に連設された給気路を挟むように設けられて、この給気路を横切る磁場を形成する一対の磁石とを備えた廃棄物処理炉であって、前記排気口が、前記密閉容器の上壁で、第1の側壁に近接して設けられ、前記給気口が、前記排気口が近接して設けられた第1の側壁と対向する第2の側壁の下部両側にそれぞれ設けられ、かつ、それぞれの給気口が、前記第2の側壁の下縁および各側縁と、これらの各縁から内側に200mmの間隔で設けられる仮想平行線とで囲まれる領域内に設けられていることを特徴とする廃棄物処理炉。

IPC (4件)：

B09B 3/00 ,  B01J 19/08 ,  F27B 3/02 ,  F27B 3/22

FI (4件)：

B09B3/00 302F ,  B01J19/08 D ,  F27B3/02 ,  F27B3/22

Fターム (14件)：

4D004AA46 ,  4D004CA24 ,  4D004CA44 ,  4D004CB04 ,  4D004DA03 ,  4D004DA20 ,  4G075AA03 ,  4G075BA10 ,  4G075CA42 ,  4G075DA02 ,  4K045AA04 ,  4K045BA10 ,  4K045CA02 ,  4K045RB24

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 廃棄物の熱処理炉
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2001-321173   出願人：紀平勝也, 岩田隆, 都志見博三