特許
J-GLOBAL ID：200903008828856568
光リソグラフィ方法及び装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
薄田 利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-249138
公開番号（公開出願番号）：特開平7-106229
出願日： 1993年10月05日
公開日（公表日）： 1995年04月21日
要約：
【要約】【目的】用いる光の波長と比較して、極めて微細なパターンを形成可能な光リソグラフィを実現する。【構成】コア1及びクラッド2からなる光ファイバーにおいて、コア1の先端を細く形成し先端から発生するエバネッセント波4を用いて、レジスト5内に微細なパターンの潜像7を形成する。【効果】潜像7の大きさはコア1の先端とレジスト5の表面との距離程度となるため、先端曲率半径を微細化してコア1の先端とレジスト5の表面を接近させることにより、入射光3の波長と比較して極めて微細なパターンを形成することが可能となる。
請求項（抜粋）：
基板上にエネルギー線を照射して、該エネルギー線によりパターンを形成するリソグラフィ方法において、該エネルギー線として光ファイバーの一端から入射し伝播した光によって該光ファイバーの他端において発生したエバネッセント波を該基板に照射し、該光ファイバーと該基板との相対位置を制御することによって該パターンを形成することを特徴とする光リソグラフィ方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/30 529
, G02B 6/00 Z
