パターン露光方法

発明者： , , ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-082695
公開番号（公開出願番号）：特開平9-274323
出願日： 1996年04月04日
公開日（公表日）： 1997年10月21日
要約：

【要約】【課題】連続したフィルム状基材の上にストライプパターンを形成する方法において、高スループットのパターン形成を実現するための方法を提供する。【解決手段】連続した基材上に感光性レジスト膜を形成し、その上から万線状の遮光パターンを有する露光用マスクを介して、基材を連続的に送りつつ露光し、所望の露光照射量を充足してストライプパターンを形成する。

請求項（抜粋）：

感光性レジスト膜を形成したフィルム状基材を連続的に送りつつ、連続照射状態でパターン露光してパターンを形成することを特徴とするパターン露光方法。

IPC (3件)：

G03F 7/20 , G02B 5/20 101 , G02F 1/1335 505

FI (3件)：

G03F 7/20 , G02B 5/20 101 , G02F 1/1335 505

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