特許

J-GLOBAL ID：200903008834142232

気相法シリカ水系分散液の製造方法及びそれを用いたインクジェット記録材料

発明者： 小松 孝章 ,  三宅 大地
出願人/特許権者： 三菱製紙株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-066101
公開番号（公開出願番号）：特開2004-267991
出願日： 2003年03月12日
公開日（公表日）： 2004年09月30日
要約：

【課題】分散所要時間を短縮し、工程的に極めて優位な高濃度気相法シリカ分散液の製造方法を提供し、それを用いたインク吸収性と光沢が高いインクジェット記録材料を提供する。【解決手段】気相法シリカの粗分散物を得る一次分散工程、該一次分散工程で得られた粗分散物を微細分散して粒径分布を整える二次分散工程の2工程よりなり、該一次分散工程において分散助剤と水系分散媒の混合物に気相法シリカを連続的に供給及び分散するフロー式吸引分散撹拌機と、回転翼式撹拌機を備えたバッチ式分散タンクを併用し、且つ減圧にて分散する。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

気相法シリカ分散液の製造方法であって、気相法シリカの粗分散物を得る一次分散工程、該一次分散工程で得られた粗分散物を微細分散して粒径分布を整える二次分散工程の2工程よりなり、該一次分散工程において分散助剤と水系分散媒の混合物に気相法シリカを連続的に供給及び分散するフロー式吸引分散撹拌機と、回転翼式撹拌機を備えたバッチ式分散タンクを併用し、且つ減圧にて分散する気相法シリカ分散液の製造方法。

IPC (9件)：

B02C17/16 ,  B01F17/16 ,  B01F17/52 ,  B02C17/00 ,  B02C19/00 ,  B02C19/18 ,  B41J2/01 ,  B41M5/00 ,  C01B33/141

FI (10件)：

B02C17/16 Z ,  B01F17/16 ,  B01F17/52 ,  B02C17/00 C ,  B02C17/00 D ,  B02C19/00 Z ,  B02C19/18 B ,  B41M5/00 B ,  C01B33/141 ,  B41J3/04 101Y

Fターム (31件)：

2C056EA05 ,  2C056FC01 ,  2H086BA01 ,  2H086BA15 ,  2H086BA17 ,  2H086BA21 ,  2H086BA31 ,  2H086BA33 ,  2H086BA46 ,  4D063FF14 ,  4D063GA05 ,  4D063GA10 ,  4D063GD27 ,  4D067CE01 ,  4D067CG06 ,  4D067GA07 ,  4D067GA20 ,  4D077AA08 ,  4D077AB04 ,  4D077AC05 ,  4D077DD13Y ,  4D077DE17Y ,  4G072AA28 ,  4G072DD07 ,  4G072DD08 ,  4G072EE01 ,  4G072GG02 ,  4G072GG03 ,  4G072HH14 ,  4G072PP07 ,  4G072UU25