特許

J-GLOBAL ID：200903008857003221

螢光体分散感放射線性組成物

発明者： 増子 英明 ,  宇田川 忠彦 ,  宮路 正昭 ,  熊野 厚司
出願人/特許権者： ジェイエスアール株式会社
代理人 (1件)： 福沢 俊明
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-340365
公開番号（公開出願番号）：特開平10-168108
出願日： 1996年12月06日
公開日（公表日）： 1998年06月23日
要約：

【要約】【課題】 パターン形成時の現像マージンが広く、かつ放射線照射、現像および焼成工程を経たのちでも、十分な膜厚を有し、表示輝度の高い螢光面を形成しうる螢光体分散感放射線性組成物を提供する。【解決手段】 (イ)螢光体、(ロ)有機高分子バインダー、(ハ)光架橋性のモノマーおよび/またはオリゴマー並びに(ニ)光ラジカル発生剤を含有する螢光体分散感放射線性組成物において、(ニ)光ラジカル発生剤が、(a)2-メチル-1-[ 4-(メチルチオ)フェニル ]-2-モルフォリノプロパノン-1、(b)4,4’-ジエチルアミノベンゾフェノンおよび(c)チオキサントンおよび/または置換チオキサントンの組み合わせを含有することを特徴とする螢光体分散感放射線性組成物。

請求項（抜粋）：

(イ)螢光体、(ロ)有機高分子バインダー、(ハ)光架橋性のモノマーおよび/またはオリゴマー並びに(ニ)光ラジカル発生剤を含有する螢光体分散感放射線性組成物において、(ニ)光ラジカル発生剤が、(a)2-メチル-1-[ 4-(メチルチオ)フェニル ]-2-モルフォリノプロパノン-1と(b)4,4’-ジエチルアミノベンゾフェノンと(c)チオキサントンおよび/または置換チオキサントンとの組み合わせを含有することを特徴とする螢光体分散感放射線性組成物。

IPC (5件)：

C08F 2/50 ,  C08F 2/44 ,  C08F299/00 ,  C09K 11/00 ,  G03F 7/004 505

FI (5件)：

C08F 2/50 ,  C08F 2/44 ,  C08F299/00 ,  C09K 11/00 Z ,  G03F 7/004 505

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 蛍光体パターン形成法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-252947   出願人：日本合成化学工業株式会社, 三菱電機株式会社
• フォトレジストフィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平6-252945   出願人：日本合成化学工業株式会社, 三菱電機株式会社
• フォトレジストフィルム
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-088038   出願人：日本合成化学工業株式会社
• 特開昭63-275602